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第59章 我能解决（第1页）

曝光系统，这可是光刻机核心中的核心啊，曝光系统还有问题，就敢喊“明年交付”？

“哎！”程旭叹了口气，瞬间想到了什么，也有些理解，这其中应该还有一些战略目的。

“是光学问题，还是系统问题？”程旭接着问道。

光学问题，就是超精密光学技术了，其中包括光源、掩膜版（台）、透镜等很多部分。

系统问题，那就涉及超精密光机系统协同、驱动控制、信息处理等多个模块。

“这两个问题其实可以归结为一个问题。”

来之前，赵辉已经获得授权，拿到了所有的资料，就是为了给程旭做考察之前的介绍：

“光学系统的精度不够，本身是硬件问题。国科精密已经做到极限了，还是满足不了28nm光刻机的需求。就现在，他们的人员还在不断的尝试攻克这一问题。

“而我们，也在尝试，通过更智能的系统来解决这一问题，计算机辅助、物镜光路智能跟进优化等，效果也不好。”

也正因如此，沪微对程旭十分重视，哪怕他还是只是一个学生——甚至还专门在公司内寻找到了他的同乡，赵辉来接待。

因为他们知道，更强大的智能手段是能解决这个问题。而“言心”的一夜蜕变更是证明了程旭的实力。

而程旭，后槽牙都快咬断了——他的目标可不是28nm光刻机，而是7nm的制程工艺啊！这下还怎么搞！

尤其是调研了试产产线和看到了试产芯片效果的时候，程旭更是久久无言。

一个按照28nm级别打造的设备，现在试产40nm，堪堪达标。

试产28nm，良率，就别叫良率了吧，整片8寸晶圆，就没产出几块儿能用的芯片。

更不用说套刻14，套刻7nm了。要知道，DUV光刻机的极限套刻精度是2。5nm啊！

当然，成本奇高，不会有真正产线这么干就是了。

但，台积电用DUV量产了7nm的芯片，这是实打实可以做到的。

这也是程旭敢说7nm的根源所在，但现在……

七天，程旭整整在样机产线钻研了七天，一直摇头叹息外加不断感叹，但硬件本身不达标，又能怎么办呢？

“怎么？有困难？”赵辉一路陪同，安慰道：

“不用急，大家都知道光刻机的难度，你这刚来，就算能解决，那也得几个月半年的时间吧？不用那么着急的！”

“行了，叫人吧，开会。”程旭也不再纠结，心里有了决定，在这儿耗着，或许还不如回去研究荷泵提升来的快捷。

“能解决！”工程师们都到齐之后，程旭咬牙切齿的说了这么一句话

“嗯？”

所有人都疑惑了，他们一进来就看到程旭凝重的表情，那意味着事情无比棘手，怎么说出了“能解决”这四个字儿呢？

而且，这语气，好像跟谁苦大愁深一样，这是能解决的样子吗？

程旭没有注意众人的表情，而是介绍起自己的发现：

“这台光刻机问题很多，首先，物镜的标准还是很高的，满足28nm光刻机绝对没有问题。

“那问题出在哪儿了呢？是内部投影物镜的温度波动！”

“随着光刻机分辨率的不断提高，集成电路【芯片特征线宽】逐渐缩小，温度，哦，也包括湿度和环压，这些外部环境参数的波动对成像质量的影响越来越大。